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Laboranlagen mit Rundkathoden

Laboranlagen

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Laboranlagen mit Rundkathoden


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Beschreibung
Laboranlagen mit Rundkathoden sind spezielle Arten von Sputteranlagen, die eine Rundkathodenkonfiguration verwenden. Diese Anlagen dienen dazu, dünnste Schichten von Materialien auf Substraten abzuscheiden, und sie finden Anwendung in Forschungslaboren, Entwicklungsbereichen und manchmal auch in kleineren Produktionsumgebungen. Die Rundkathoden-Sputtertechnologie bietet mehrere Vorteile:
  1. Homogene Schichtdicke: Die Rundkathodenkonfiguration ermöglicht eine gleichmäßige Verteilung des abgeschiedenen Materials auf dem Substrat. Dies ist wichtig, um reproduzierbare Ergebnisse in Forschung und Entwicklung zu erzielen.
  2. Mehrere Materialien: In Laboranlagen mit Rundkathoden können oft mehrere Kathoden eingebaut werden. Dadurch können verschiedene Materialien nacheinander oder gleichzeitig abgeschieden werden, was die Flexibilität in der Materialforschung und -entwicklung erhöht.
  3. Geringe Partikelbildung: Durch die spezielle Konfiguration der Rundkathoden wird die Partikelbildung während des Sputterprozesses reduziert, was zu hochwertigen dünnen Schichten führt.
  4. Reine Schichten: Die Kathoden können aus reinem Material bestehen, was die Möglichkeit bietet, hochreine Schichten abzuscheiden, die in der Analyse oder bei empfindlichen Anwendungen benötigt werden.
  5. Anpassbare Prozessparameter: Laboranlagen mit Rundkathoden ermöglichen oft eine einfache Anpassung verschiedener Prozessparameter wie Gasfluss, Druck und Leistung, um die Schichteigenschaften zu optimieren.
  6. Flexibilität und Skalierbarkeit: Diese Art von Anlagen bietet oft eine gute Balance zwischen Flexibilität für die Forschung und Entwicklung sowie Skalierbarkeit für kleinere Produktionsanforderungen.
Produktparameter

Einzelne Rundkathoden

Rechteckkathoden

Batchanlagen

Bilder

Laboranlagen mit Rundkathoden


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