Laboranlagen mit Rundkathoden

Laboranlagen mit Rundkathoden

1. Einführung

Laboranlagen mit Rundkathoden werden für hochpräzise Beschichtungsprozesse in Forschung, Entwicklung und Kleinserienproduktion eingesetzt. Sie kommen vor allem in der Dünnschichttechnologie, Halbleiterfertigung und Materialforschung zum Einsatz. 🔹 Typische Anwendungsbereiche:
✔ Dünnschicht-Technologien (optische & elektrische Schichten)
✔ Halbleiter- & Nanotechnologie
✔ Tribologische Beschichtungen (Verschleißschutz)
✔ Hochleistungskeramik & Metallisierung
✔ Forschung & Entwicklung in Universitäten und Instituten

2. Funktionsweise von Rundkathoden in Laboranlagen

Rundkathoden werden häufig im Magnetron-Sputter-Verfahren eingesetzt. Dabei wird ein Plasma gezündet, das Material von der Kathodenoberfläche ablöst und auf das Substrat überträgt. ✅ Gleichmäßige Schichtabscheidung – Hohe Homogenität der Beschichtung
✅ Variable Target-Materialien – Metalle, Legierungen, Keramiken
✅ Kompakte Bauweise – Ideal für Laboranwendungen
✅ Hohe Prozesskontrolle – Präzise Steuerung von Schichtdicke und Zusammensetzung

3. Vorteile von Laboranlagen mit Rundkathoden

Eigenschaft Vorteil Modularer Aufbau Flexible Anpassung an Forschungsanforderungen Hohe Reproduzierbarkeit Exakte Schichtstärken und Materialeigenschaften Kompakte Größe Platzsparende Integration in Labore Einfacher Wechsel der Targets Schnelle Material-Experimente Kompatibilität mit verschiedenen Substraten Glas, Silizium, Metalle, Polymere

4. Fazit

Laboranlagen mit Rundkathoden bieten eine effiziente Lösung für präzise, homogene und reproduzierbare Dünnschicht-Beschichtungen in Forschung und Entwicklung. Dank ihrer modularen Bauweise sind sie flexibel anpassbar und ermöglichen die Untersuchung neuer Materialkombinationen für verschiedenste Anwendungen.

Einzelne Rundkathoden

Rechteckkathoden

Batchanlagen