Compact and inexpensive Plasma Sources

Compact and inexpensive Plasma Sources by Aurion Anlagenbau GmbH

Aurion Anlagentechnik GmbH

63500-D Seligenstadt
14 Am Sandborn

+49 6182 96280

+49 6182 962816

Compact and inexpensive Plasma Sources

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Beschreibung

These new, extremely compact and inexpensive plasma sources were developed in cooperation with the Ferdinand Braun Institute for High Frequency Technology, Berlin. The models of the AURION IMAPlaS series can be used to activate and clean all types of surfaces, as well as to remove various materials. They are used in many areas of microelectronics, electronics, optics, sensor technology, medical technology and a wide variety of other industrial segments. They are fully integrated, ready-to-use devices in various configurations.

Produktparameter

Activate and clean surfaces

Microelectronics

Medical Technology

Bilder

Compact and inexpensive Plasma Sources

Plasmasysteme aller Art

Plasma surface Technology for cleaning and modification as well as for coating and etching processes (PVD, PECVD, RIE, microwave).

High frequency Plasma processes at various industrial Frequencies (13.56MHz, 27.12MHz up to 80MHz).

Components and complete Systems for Plasma-enhanced Surface Treatment

Cleaning of Surfaces with Plasma

Etching with Atmospheric pressure Plasma

All kinds of Plasma Systems

Coating with Plasma Systems

Atmospheric Plasma for Medical Technology

Compact and inexpensive Plasma Sources

Removal of organic contaminants by Plasma Cleaning

PLASMA GENERATOR

AURION PECVD systems

microwave downstream plasma of AURION

AURION Compact Microwave

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