Vakuumkammer KIVOS

Die KIVOS-Vakuumkammer ist eine spezielle Art von Vakuumkammer, die in der Materialwissenschaft und Oberflächenphysik eingesetzt wird. KIVOS steht für "Kalt-Ionen-Verdampfungs-Ofen-System". Diese Art von Vakuumkammer wird oft in der Dünnschichttechnologie verwendet, insbesondere für die Herstellung von dünnen Schichten durch physikalische Gasphasenabscheidung (PVD). Hier sind einige wichtige Merkmale und Funktionen einer KIVOS-Vakuumkammer:

1. Kalt-Ionen-Verdampfungs-Ofen (KIVOS): Der KIVOS ist eine Vorrichtung zur kontrollierten Verdampfung von Materialien unter Vakuumbedingungen. Im Gegensatz zu herkömmlichen Verdampfungsöfen wird beim KIVOS eine spezielle Technik verwendet, um die Erzeugung von Kaltionen zu ermöglichen. Diese Kaltionen haben den Vorteil, dass sie eine bessere Kontrolle über den Verdampfungsprozess und eine höhere Schichtqualität bieten.
2. Vakuumkammer: Die Vakuumkammer dient dazu, ein Hochvakuum zu erzeugen, das für die Abscheidung von dünnen Schichten erforderlich ist. Sie besteht aus einem robusten Material wie Edelstahl und ist mit einem Vakuumpumpensystem ausgestattet, das die Luft aus der Kammer entfernt, um ein Vakuum zu erzeugen.
3. Substrathalterung: Innerhalb der Vakuumkammer befindet sich eine Vorrichtung zur Halterung der Substrate, auf die die dünnen Schichten abgeschieden werden sollen. Die Substrate können auf Heizplatten montiert werden, um die Temperatur während des Abscheideprozesses zu kontrollieren und die Schichtqualität zu verbessern.
4. Plasmaquelle (optional): In einigen KIVOS-Vakuumkammern kann eine Plasmaquelle integriert sein, um die Oberfläche der Substrate vor der Abscheidung zu reinigen oder zu aktivieren. Dies kann die Haftung der abgeschiedenen Schichten verbessern.
5. Steuer- und Überwachungssystem: Die KIVOS-Vakuumkammer wird von einem Steuer- und Überwachungssystem gesteuert, das die verschiedenen Parameter des Abscheideprozesses überwacht und regelt. Dazu gehören Druck, Temperatur, Gasfluss und Verdampfungsrate.

Die KIVOS-Vakuumkammer ermöglicht die Herstellung von dünnen Schichten mit hoher Präzision und Qualität. Sie wird in verschiedenen Anwendungen eingesetzt, darunter die Halbleiterindustrie, die Optoelektronik, die Solarzellenherstellung und die Beschichtung von optischen Komponenten.

Rahmenmaterial: Edelstahl

Modulmaterial: Aluminium oder Edelstahl

Leckrate: < 5×10-5 mbar×l/s