KIVOS-Vakuumkammer

KIVOS-Vakuumkammer von Aurion Anlagentechnik GmbH

Aurion Anlagentechnik GmbH

63500-D Seligenstadt
14 Am Sandborn

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KIVOS-Vauumkammer von Aurion Anlagentechnik GmbH

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Beschreibung

KIVOS-Vakuumkammer – Hochpräzise Lösungen für Plasma- und Vakuumprozesse

Die KIVOS-Vakuumkammer ist eine speziell entwickelte Kammer für Vakuum-, Plasma- und Beschichtungsprozesse in Industrie und Forschung. Sie ermöglicht eine kontrollierte Umgebung mit reduziertem Druck, die für eine Vielzahl von Anwendungen genutzt wird.

Eigenschaften der KIVOS-Vakuumkammer

🔹 Robuste Bauweise aus Edelstahl oder Aluminium für maximale Haltbarkeit
🔹 Modular erweiterbar für spezifische Prozessanforderungen
🔹 Kompatibel mit verschiedenen Plasmaquellen (RF, MW, DC)
🔹 Hohe Dichtigkeit für optimale Prozessstabilität
🔹 Flexibler Druckbereich von Hochvakuum bis Niederdruck

Anwendungsbereiche der KIVOS-Vakuumkammer

1. Plasmabehandlung

✔ Oberflächenreinigung & Aktivierung für bessere Haftung
✔ Sterilisation von medizinischen Produkten
✔ Modifikation von Kunststoffen, Metallen & Keramiken

2. Dünnschichtbeschichtung (PVD, PECVD, ALD)

✔ Aufbringen von Schutz- & Funktionsschichten
✔ Optische Beschichtungen & Halbleiteranwendungen
✔ Korrosions- und Verschleißschutz für Industriebauteile

3. Trockenätzen & Mikrostrukturierung

✔ Präzises Ätzen für Mikroelektronik & Sensorik
✔ RIE- und ICP-Technologie für feinste Strukturen

4. Forschung & Entwicklung

✔ Materialtests unter definierten Vakuumbedingungen
✔ Simulation von Weltraumbedingungen für Satellitenkomponenten

Vorteile der KIVOS-Vakuumkammer

✅ Hohe Prozesskontrolle für reproduzierbare Ergebnisse
✅ Kompatibilität mit gängigen Plasma- und Beschichtungstechniken
✅ Modular anpassbar für verschiedene Industrie- & Forschungsanwendungen
✅ Sichere & zuverlässige Vakuumtechnik Die KIVOS-Vakuumkammer ist eine leistungsstarke Lösung für High-Tech-Anwendungen, bei denen präzise Vakuumbedingungen erforderlich sind. Sie wird erfolgreich in der Medizintechnik, Halbleiterindustrie, Materialwissenschaft und Beschichtungstechnik eingesetzt.

Produktparameter

Oberflächenbehandlung

Aktivierung von Kunststoffoberflächen

Aktivieren und Reinigen von Oberflächen

Hohe Spaltgängigkeit

Bilder

KIVOS-Vakuumkammer

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Mehrkammeranlagen mit Substrattransport unter Vakuum

Mehrkammeranlagen nach Kundenwunsch

Oberflächenreinigung mit Trockenätzung

Veraschung von Fotolack

Strukturierung von Schaltungen auf Halbleiterwafern

RIE-Prozeß (Reactive Ion Etching)

Automatic Impedance Matching Network

Plasma surface Technology for cleaning and modification as well as for coating and etching processes (PVD, PECVD, RIE, microwave).

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