Multi-chamber Systems with Substrate Handling under Vacuum

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_gat	Google	Wird von Google Analytics verwendet, um die Anforderungsrate einzuschränken	1 Tag	HTTP

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Multi-chamber Systems with Substrate Handling under Vacuum

Automatic Impedance Matching Network

Plasma surface Technology for cleaning and modification as well as for coating and etching processes (PVD, PECVD, RIE, microwave).

Training in the fields of Plasma Technology and High-Frequency Technology

High frequency Plasma processes at various industrial Frequencies (13.56MHz, 27.12MHz up to 80MHz).

Components and complete Systems for Plasma-enhanced Surface Treatment

Sputtering Systems in various configurations

Activation with Atmospheric Pressure Plasma

Activation of Plastic Surfaces with Plasma

Cleaning of Surfaces with Plasma

Etching with Atmospheric pressure Plasma

Sputtering Systems According to Customer Requirements

RIE-Systems

Dry etching process for accelerated surface cleaning

Coating with Plasma Systems

Activation and Cleaning of all types of Surfaces in Sensor Technology

Activating and Cleaning of all types of Surfaces in Medical Technology

Atmospheric Plasma for Medical Technology

Compact and inexpensive Plasma Sources

Removal of organic contaminants by Plasma Cleaning

Pretreatment of Plastic parts by Plasma Activation