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Trockenätzverfahren zur schnellen Oberflächenreinigung

Trockenätzverfahren zur schnellen Oberflächenreinigung von Aurion Anlagentechnik GmbH

Aurion Anlagentechnik GmbH

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Trockenätzverfahren zur schnellen Oberflächenreinigung


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Beschreibung
Der RIE-Prozeß (Reactive Ion Etching) ist ein Trockenätzverfahren, welches vor allem in der Elektronik- und Mikroelektronikfertigung zur schnellen Oberflächenreinigung bzw. -aktivierung, zur Veraschung von Fotolack oder zur Strukturierung von Schaltungen auf Halbleiterwafern eingesetzt wird.
Produktparameter

Beschichtung

Aktivierung von Kunststoffoberflächen

Hoher Entfettungsgrad

Hohe Spaltgängigkeit

Aktivieren und Reinigen von Oberflächen

Bilder

Trockenätzverfahren zur schnellen Oberflächenreinigung


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