Mehrkammeranlagen mit Substrattransport unter Vakuum

1. Mehrkammerkonfiguration:
   • Mehrkammeranlagen bestehen aus mehreren Kammern, die jeweils für verschiedene Prozesse wie Reinigung, Beschichtung, Ätzen oder Analyse konfiguriert sind.
   • Jede Kammer kann speziell für einen bestimmten Prozess optimiert und mit den erforderlichen Ausrüstungen und Werkzeugen ausgestattet werden.
2. Substrattransport unter Vakuum:
   • Der Substrattransport erfolgt unter Vakuumbedingungen, um eine Verunreinigung der Substrate zu verhindern und eine hohe Prozessqualität sicherzustellen.
   • Die Substrate werden in speziellen Transportkammern oder Transfermodulen bewegt, die eine kontrollierte Atmosphäre und einen geschützten Transportweg bieten.
3. Anwendungen:
   • Mehrkammeranlagen mit Substrattransport unter Vakuum werden für eine Vielzahl von Prozessen eingesetzt, darunter die physikalische und chemische Gasphasenabscheidung (PVD und CVD), die Plasmaätzung, die Reinigung, die Analyse und andere Oberflächenbehandlungen.
   • Sie finden Anwendung in der Herstellung von Halbleiterbauelementen wie integrierten Schaltkreisen (ICs), Mikrochips, Transistoren, Sensoren, Displays und anderen elektronischen Bauteilen.
4. Prozessintegration und Automation:
   • Mehrkammeranlagen ermöglichen eine nahtlose Integration verschiedener Prozesse und eine automatisierte Abfolge von Prozessschritten, um die Produktionskapazität zu maximieren und die Effizienz zu steigern.
   • Fortschrittliche Steuerungs- und Überwachungssysteme ermöglichen die präzise Kontrolle von Prozessparametern, die Echtzeitüberwachung von Prozessabläufen und die Optimierung der Prozessleistung.
5. Flexibilität und Skalierbarkeit:
   • Mehrkammeranlagen bieten Flexibilität und Skalierbarkeit für verschiedene Anwendungen und Produktionsanforderungen.
   • Sie können einfach angepasst, konfiguriert und erweitert werden, um den spezifischen Anforderungen der jeweiligen Herstellungsprozesse und Produktionsvolumina gerecht zu werden

Schleusenkammern

Transferkammern