Hochfrequenz-Plasmaprozesse bei verschiedenen Industriefrequenzen (13,56 MHz, 27,12 MHz bis zu 80 MHz).

1. Plasmaquelle:
   • Hochfrequenz-Plasmaprozesse verwenden eine Hochfrequenz-Stromquelle, um Plasma zu erzeugen. Dies kann im Radiofrequenzbereich (RF), Mikrowellenbereich oder anderen hochfrequenten Bereich erfolgen.
   • Die Plasmaquelle ist so konstruiert, dass sie eine elektromagnetische Feldkraft erzeugt, die die Ionen im Gas beschleunigt und so das Plasma erzeugt.
2. Prozessparameter:
   • Die Parameter des Hochfrequenz-Plasmaprozesses müssen sorgfältig gesteuert werden, um die gewünschten Effekte zu erzielen. Dazu gehören die Hochfrequenzleistung, die Gaszusammensetzung, die Gasflussrate, der Druck in der Kammer und die Behandlungszeit.
   • Diese Parameter können je nach Anwendung und den spezifischen Anforderungen des Prozesses variiert werden, um die gewünschten Ergebnisse zu erzielen.
3. Effekte der Hochfrequenz-Plasmabehandlung:
   • Hochfrequenz-Plasmaprozesse können verschiedene Effekte auf Materialien und Oberflächen haben. Dazu gehören die Reinigung von Oberflächen von Verunreinigungen, die Aktivierung von Oberflächen für eine bessere Haftung von Beschichtungen oder Klebstoffen, die Änderung der Oberflächenchemie und die Modifikation der Oberflächenstruktur.
   • Diese Effekte können in einer Vielzahl von Anwendungen genutzt werden, einschließlich der Verbesserung der Adhäsion, der Modifikation der Oberflächeneigenschaften für biomedizinische Anwendungen oder der Erzeugung von strukturierten Oberflächen für optische Anwendungen.
4. Anwendungen:
   • Hochfrequenz-Plasmaprozesse finden in einer Vielzahl von Anwendungen Anwendung, darunter die Reinigung und Aktivierung von Oberflächen vor Beschichtungs- oder Klebeprozessen, die Ätzung und Strukturierung von Materialien in der Mikroelektronik, die Plasmaätzung zur Herstellung von Mikrostrukturen, die Plasma-Polymerisation zur Herstellung von dünnen Filmen und die Oberflächenfunktionalisierung für biomedizinische Anwendungen.

Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD)