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VHF-Elektrode für Hochtemperatur

Anwendung • PECVD von Silizium-Legierungen bei Temperaturen bis 600 °C für Substrate bis 100 mm x 100 mm oder Æ 150 mm • Thermisch aktivierte PECVD Aufbau • HF/VHF-Elektrode mit Leistungsversorgung, Gasdusche mit Thermostatierung bis 200 °C • Gasversorgungssystem (optional) Wesentliche Merkmale und Funktionsweise • Integrierbar in Vakuumkammer DN 200, face up- und face down- Prozessmode • Geeignet für Anregungsfrequenzen bis 100 MHz und hohe Leistungsdichten • Elektrodenabstand manuell einstellbar zur Prozessanpassung • Definierte Entladungsraumbegrenzung • Elektrodenmaterial Edelstahl


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