Internationale Firmen- und Produktsuchmaschine

VHF-Elektrode für Hochtemperatur

Wafer von FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden

FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden

01217-D Dresden
        67B Gostritzer Straße

+49 351 8718110

+49 351 8718416

HF/VHF-Elektrode für Hochtemperatur-PECVD VPE 100 HT


Anfrage an Anbieter senden


Beschreibung
Anwendung • PECVD von Silizium-Legierungen bei Temperaturen bis 600 °C für Substrate bis 100 mm x 100 mm oder Æ 150 mm • Thermisch aktivierte PECVD Aufbau • HF/VHF-Elektrode mit Leistungsversorgung, Gasdusche mit Thermostatierung bis 200 °C • Gasversorgungssystem (optional) Wesentliche Merkmale und Funktionsweise • Integrierbar in Vakuumkammer DN 200, face up- und face down- Prozessmode • Geeignet für Anregungsfrequenzen bis 100 MHz und hohe Leistungsdichten • Elektrodenabstand manuell einstellbar zur Prozessanpassung • Definierte Entladungsraumbegrenzung • Elektrodenmaterial Edelstahl
Produktparameter

Integrierbar in Vakuumkammer DN 200, face up- und face down- Prozessmode

Geeignet für Anregungsfrequenzen bis 100 MHz und hohe Leistungsdichten

Elektrodenabstand manuell einstellbar zur Prozessanpassung

Bilder

VHF-Elektrode für Hochtemperatur


©  Itsbetter