Portal-Plasmaanlage mit HighFocus Plasmaquelle

Eine Portal-Plasmaanlage mit einer HighFocus Plasmaquelle ist eine spezialisierte Plasmaanlage, die in der Oberflächenbehandlung und Materialbearbeitung eingesetzt wird. Diese Art von Anlage kombiniert ein Portal- oder Portalrahmen-Design mit einer HighFocus Plasmaquelle, um präzise und effiziente Prozesse zu ermöglichen. Eine HighFocus Plasmaquelle zeichnet sich durch ihre Fähigkeit aus, einen stark fokussierten und gebündelten Plasmastrahl zu erzeugen. Dieser fokussierte Strahl ermöglicht eine präzise Behandlung oder Bearbeitung von Materialien, da er eine hohe Energiekonzentration aufweist. Durch die Konzentration der Energie auf einen kleinen Bereich kann die Plasmaquelle gezielte thermische Effekte erzeugen, wie zum Beispiel das Aufschmelzen oder Verdampfen von Oberflächen oder die Aktivierung von Beschichtungen. Die Portal-Plasmaanlage basiert auf einem Portal- oder Portalrahmen-Design, bei dem der zu bearbeitende Werkstückträger oder die zu behandelnden Teile in einer definierten Position fixiert werden. Das Portal ermöglicht die präzise Bewegung der Plasmaquelle über die zu behandelnde Oberfläche, um eine gleichmäßige und reproduzierbare Behandlung zu gewährleisten. Die Anlage kann für verschiedene Anwendungen eingesetzt werden, wie zum Beispiel das Schneiden, Schweißen, Beschichten oder Reinigen von Materialien.

Materialien bis 35/50 mm Dicke.

Format : 1500×3000 und 2000×6000 mm