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Fertigung von Anlagen zur Plasma-CVD

Fertigung und Lieferung von Anlagen und Technologien zur Plasma-CVD von FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden

FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden

01217-D Dresden
        67 Gostritzer Straße

+49 351 8718110

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Entwicklung, Fertigung und Lieferung von Anlagen und Technologien zur Plasma-CVD mit plasmachemischer Reaktorreinigung


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Beschreibung
Entwicklung, Fertigung und Lieferung von Reaktoren/Elektroden- systemen für Load Lock-, Cluster- und In line- Systeme mit Technologieinstallation zur • Plasma-CVD von elektronisch hochwertigen Schichten auf ebenen Substraten mit Abmessungen bis 1 m², Betriebsfrequenz bis 80 MHz • Plasma-CVD von elektronisch hochwertigen Schichten auf zylindrischen Substraten, Betriebsfrequenz bis 27,12 MHz • Plasma-CVD von elektronisch hochwertigen Schichten auf ebenen Substraten bei kontinuierlicher Substratbewegung, Betriebsfrequenz bis 80 MHz.
Produktparameter

Mit plasmachemischer Reaktorreinigung

Plasmapolymerisation für ebene und zylindrische Substrate

Bilder

Fertigung von Anlagen zur Plasma-CVD


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