Internationale Firmen- und Produktsuchmaschine

VHF-PECVD-Reaktor mit Gasdichtung

VHF-PECVD-Reaktoren von FAP Plasmatechnik GmbH

FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden

01217-D Dresden
        67B Gostritzer Straße

+49 351 8718110

+49 351 8718416

VHF-PECVD-Reaktor mit Gasdichtung VPM 200 von FAP Plasmatechnik GmbH


Anfrage an Anbieter senden


Beschreibung
• PECVD von a-Si:H und Siliziumverbindungen mit hohen Reinheitsanforderungen • Für Wafer oder Carrier mit Durchmesser von 6" und 8" • Zur Fertigung komplexer Dünnschichtstrukturen, beispielsweise für digitale Bildsensoren Aufbau und Lieferumfang • HF/VHF-Elektrode mit Leistungsversorgung, Gasdusche und Thermostatierung • Substratelektrode mit Heizung und Liftsystem • Plasmaconfinement • Zwischenrezipient mit Spülgasdichtung • Gasversorgungssystem • Vakuumkammer und Pumpsystem optional Wesentliche Merkmale und Funktionsweise • Integrierbar in Clustertool oder Load Lock-System mit Zentralhandler bzw. Lineartransportsystem, Face up- Prozessierung • Geeignet für Anregungsfrequenzen bis 60 MHz und hohe Leistungsdichten • Substratelektrode geerdet • Ausführung in Al mit plasmachemischer Reaktorreinigung oder Edelstahl
Produktparameter

Waferabmessungen > bis Ø 150 mm und 200 mm

Leistungsversorgung > 13,56; 40,68; 60 oder 80 MHz, 600 W

Substratelektroden Oberflächentemperatur > 100 bis 380 °C

Bilder

VHF-PECVD-Reaktor mit Gasdichtung


©  Itsbetter