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Trockenätzverfahren zur schnellen Oberflächenreinigung

Trockenätzverfahren zur schnellen Oberflächenreinigung von Aurion Anlagentechnik GmbH

Beschreibung

Trockenätzverfahren zur schnellen Oberflächenreinigung Der RIE-Prozeß (Reactive Ion Etching) ist ein Trockenätzverfahren, welches vor allem in der Elektronik- und Mikroelektronikfertigung zur schnellen Oberflächenreinigung bzw. -aktivierung, zur Veraschung von Fotolack oder zur Strukturierung von Schaltungen auf Halbleiterwafern eingesetzt wird.
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Trockenätzverfahren zur schnellen Oberflächenreinigung Artikelmerkmale

Beschichtung      
Aktivierung von Kunststoffoberflächen      
Hoher Entfettungsgrad      
Hohe Spaltgängigkeit      
Aktivieren und Reinigen von Oberflächen      
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