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Fertigung von Anlagen zur Plasma-CVD

Fertigung und Lieferung von Anlagen und Technologien zur Plasma-CVD von FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden

Beschreibung

Entwicklung, Fertigung und Lieferung von Anlagen und Technologien zur Plasma-CVD mit plasmachemischer Reaktorreinigung Entwicklung, Fertigung und Lieferung von Reaktoren/Elektroden- systemen für Load Lock-, Cluster- und In line- Systeme mit Technologieinstallation zur • Plasma-CVD von elektronisch hochwertigen Schichten auf ebenen Substraten mit Abmessungen bis 1 m², Betriebsfrequenz bis 80 MHz • Plasma-CVD von elektronisch hochwertigen Schichten auf zylindrischen Substraten, Betriebsfrequenz bis 27,12 MHz • Plasma-CVD von elektronisch hochwertigen Schichten auf ebenen Substraten bei kontinuierlicher Substratbewegung, Betriebsfrequenz bis 80 MHz.
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Fertigung von Anlagen zur Plasma-CVD Artikelmerkmale

Mit plasmachemischer Reaktorreinigung      
Plasmapolymerisation für ebene und zylindrische Substrate      
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