Internationale Firmen- und Produktsuchmaschine

VHF-PECVD-Großflächenelektrode

Wafer,Platten von FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden

FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden

01217-D Dresden
        67B Gostritzer Straße

+49 351 8718110

+49 351 8718416

Zur Produktseite des Anbieters

VHF-PECVD-Großflächenelektrode VPE 1400/10000


Anfrage an Anbieter senden


Beschreibung
• PECVD von Silizium-Legierungen bei   Temperaturen bis 250 °C auf   Platten/Carrier mit Flächen bis 1 m2 • Gasphasendotierung mit   Dotantenhydriden • Plasmapolymerisation Aufbau und Lieferumfang • HF/VHF-Elektrode mit   Leistungsversorgung, Gasdusche   und Thermostatierung • Carrier • Gasversorgungssystem (optional) Wesentliche Merkmale und Funktionsweise • Integrierbar in Vakuumkammer mit oder ohne Heizung,   Substrathalterung face up oder vertikal • Geeignet für Anregungsfrequenzen bis 40.68 MHz und hohe   Leistungsdichten • Definierte Entladungsraumbegrenzung • Elektrodenausführung in Aluminium • Plasmachemische Reaktorreinigung
Produktparameter

HF/VHF-Elektrode mit Leistungsversorgung, Gasdusche und Thermostatierung

Carrier

Integrierbar in Vakuumkammer mit oder ohne Heizung, Substrathalterung face up oder vertikal

Bilder

VHF-PECVD-Großflächenelektrode

Bewertungen/Referenzen
Schreiben Sie erste Produkt-Bewertung
0

©  Itsbetter