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Elektrode für plattenförmige Substrate

• VHF-PECVD von Silizium-Legierungen bei Temperaturen bis 300 °C auf Platten mit Abmessungen bis 300 mm x 300 mm • Plasmachemisches Ätzen • Plasmachemische Reaktorreinigung Aufbau und Lieferumfang • HF/VHF-Elektrode mit Leistungsversorgung, Gasdusche und Thermostatierung • Gasversorgungssystem (optional) Wesentliche Merkmale und Funktionsweise • Integrierbar in Vakuumkammer mit Substratelektrode, Substrathalterung face up oder vertikal • Geeignet für Anregungsfrequenzen bis 60 MHz und hohe Leistungsdichten • Definierte Entladungsraumbegrenzung • Elektrodenausführung in Aluminium


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