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RIE-Systeme

RIE-Systeme von Aurion Anlagentechnik GmbH

Aurion Anlagentechnik GmbH

63500-D Seligenstadt
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RIE-Systeme (Reactive Ion Etching)


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Beschreibung
Basierend auf einem hohen Wissensstand und reichhaltiger Erfahrung im Bereich der Hochfrequenz-Plasmaprozesse hat AURION eine Reihe von RIE-Systemen entwickelt, welche sich vor allem durch Flexibilität und ein sehr gutes Preis- / Leistungsverhältnis auszeichnen. Das Angebot umfaßt mehrere Anlagengrößen für die verschiedensten Substrate, Durchsätze und Abtragsraten. Aufgrund der hohen möglichen Beladungskapazität (bis zu 25 Wafer mit Ø 150 mm oder 20 Wafer mit Ø 200 mm) bei kleiner Standfläche (max. 1,5 m² im Reinraum) kann bei bestimmten Prozessen trotz des Verzichts auf ein teures automatisches Handlingsystem ein Durchsatz von über 100.000 Wafern pro Jahr erzielt werden. Dieser Aspekt ist nicht nur für Unternehmen mit einem kleinen Investitionsetat sehr interessant.
Produktparameter

Beschichtung

Aktivierung von Kunststoffoberflächen

Hoher Entfettungsgrad

Aktivieren und Reinigen von Oberflächen

Bilder

RIE-Systeme


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