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RIE-Systeme

RIE-Systeme von Aurion Anlagentechnik GmbH

Beschreibung

RIE-Systeme (Reactive Ion Etching) Basierend auf einem hohen Wissensstand und reichhaltiger Erfahrung im Bereich der Hochfrequenz-Plasmaprozesse hat AURION eine Reihe von RIE-Systemen entwickelt, welche sich vor allem durch Flexibilität und ein sehr gutes Preis- / Leistungsverhältnis auszeichnen. Das Angebot umfaßt mehrere Anlagengrößen für die verschiedensten Substrate, Durchsätze und Abtragsraten. Aufgrund der hohen möglichen Beladungskapazität (bis zu 25 Wafer mit Ø 150 mm oder 20 Wafer mit Ø 200 mm) bei kleiner Standfläche (max. 1,5 m² im Reinraum) kann bei bestimmten Prozessen trotz des Verzichts auf ein teures automatisches Handlingsystem ein Durchsatz von über 100.000 Wafern pro Jahr erzielt werden. Dieser Aspekt ist nicht nur für Unternehmen mit einem kleinen Investitionsetat sehr interessant.
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RIE-Systeme Artikelmerkmale

Beschichtung      
Aktivierung von Kunststoffoberflächen      
Hoher Entfettungsgrad      
Aktivieren und Reinigen von Oberflächen      
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