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VHF-PECVD-Großflächenelektrode

• PECVD von Silizium-Legierungen bei   Temperaturen bis 250 °C auf   Platten/Carrier mit Flächen bis 1 m2 • Gasphasendotierung mit   Dotantenhydriden • Plasmapolymerisation Aufbau und Lieferumfang • HF/VHF-Elektrode mit   Leistungsversorgung, Gasdusche   und Thermostatierung • Carrier • Gasversorgungssystem (optional) Wesentliche Merkmale und Funktionsweise • Integrierbar in Vakuumkammer mit oder ohne Heizung,   Substrathalterung face up oder vertikal • Geeignet für Anregungsfrequenzen bis 40.68 MHz und hohe   Leistungsdichten • Definierte Entladungsraumbegrenzung • Elektrodenausführung in Aluminium • Plasmachemische Reaktorreinigung


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